薄膜シリコン熱処理用・UV硬化樹脂用フラッシュ装置

1/1000秒レベルの極めて短い時間で試料の極表層のみを照射することにより、基材や下層への熱影響を最小限に抑えることのできる瞬間加熱技術は、デバイスの薄型化・低コスト化の要求の中でますます重要になってきています。
ウルトラキセノン UX-A15091ELは、25J/cm²の高エネルギー照射により、さまざまな素材の瞬間過熱にご使用になれる実験・評価用フラッシュ装置です。材料によって異なる最適照射条件を見出すため、3段階の閃光時間切替と5段階の照射パワー切替により計15通りのフラッシュ条件が設定できます。さらに、サンプルから光源までの距離を5mmから150mmまで変えることによって、フラッシュ条件を変えずに照射エネルギーのみを増減させた実験が行うことができます。
フラッシュランプを9本用いることで、実験・評価に最適な、ムラの少ない大面積一括照射を可能にしました。

お客様サンプルの試験照射を受け付けております。弊社はお客様の多様なニーズに対応致します。

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• さまざまな試料に対応可能な最大25J/cm²の高エネルギー照射
• 加熱条件をきめ細かく設定可能：
  15通りのフラッシュ設定、5mm～150mmの照射距離調節によって、基材と試料にとって最適な加熱条件を見出す実験が行なえます。
• 評価実験に適した均一な大面積照射：
  最大50mm×50mm（照射強度90%以内、照射距離100mmにて）を均一に照射します。

サンプルを光源に最も近接させた場合、
25J/cm²の照射エネルギーが得られます。

半導体のアニール（熱処理）
金属ナノインクの焼成・焼結（基材への熱影響抑制）
熱物性測定装置の試料加熱用パルス熱源（加熱時間による測定誤差の減少）
赤外線非破壊検査（探傷）の加熱用熱源（表面のみ加熱により、温度変化の明瞭化）
殺菌用の光源（DNA破壊殺菌線 200-300nmの強力なパルス光を照射）
蛍光浸透探傷法による非破壊検査用光源（移動体の検査が可能）
接着剤・樹脂などの硬化（UVキュア）用の光源（高いピーク照射強度・熱影響抑制）

集光型ランプを採用した低コストの実験・評価用フラッシュ装置についても、ご相談をうけたまわります。

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