‘11国際画像機器展ご案内＜終了：ご来場ありがとうございました＞

会期

2011年12月7日（水）～9日（金）

会場

パシフィコ横浜

主催

日本画像・計測機器協議会

当社ブースNo

117

主な出展製品

フラッシュランプアニール装置

• 金属(銀・銅)ナノインクのフラッシュ焼結や半導体表面の熱処理など、多様な研究用途に利用できます。
• 光による１/1000秒以下の瞬間加熱を可能とします。
• ヒーター加熱に比べ表層のみの瞬間加熱が可能です。

マシンビジョン用大光量ストロボ光源MS-G8010 80W 1灯型

• 当社従来機(80Wストロボ)の光量を２倍にする一方、ちらつきを低減しました。
• 外形は従来機の半分に小型化。寿命は５億フラッシュ以上の長寿命を実現しました。
• 外部からの調光制御も可能です。

分析用光源

• 水質、血液検査などの測光用光源として使用できるよう、発光ごとの光量ゆらぎを安定化させました。
• キセノンフラッシュランプ、トリガーパック、電源とモジュールタイプの２機種を出展します。

ナノパルスライト（超短パルス光源装置）

• NP-1A/NPL-5　閃光時間　180nsec

高速度ビデオカメラ用ストロボフラッシュ

• ESD-VF10　閃光時間　50μsec～2msec　1灯型

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